Novec? 工程用化學液，提供一個安全的化學性質(zhì)。此化學液可同時兼顧，良好的產(chǎn)品表現(xiàn)與安全的工作環(huán)境。 可廣泛的運用于各式各樣的應用，包括熱傳導、清潔、電子產(chǎn)品測驗及潤滑劑沈積。此產(chǎn)品提供:
? 極好的介電性質(zhì)。 
? 廣泛的液體溫度范圍。 
? 良好的物質(zhì)兼容性。 
? 極低毒性且不可燃。 
? 低全球暖化潛值(Low GWP)。 
? 不會破壞臭氧層(ODP值=零)。 
Novec? 7000工業(yè)用化學液
Novec? 7000在零下120°C仍為液態(tài)。此產(chǎn)品不可燃，在運輸或使用上，均無法規(guī)上的限制。此產(chǎn)品可廣泛的運用于各種不同的工業(yè)。特別適用于低溫中，當做熱傳媒介及冷凍劑。 Novec ? 7000是不可燃、極低的毒性、不會破壞臭氧層(ODP值＝零)，且全球暖化潛值低 (GWP＝370 )，是符合RoHS的環(huán)保產(chǎn)品。
Novec? 7100工業(yè)用化學液
? 指紋采證中的溶劑 
Novec ? 7100在指紋的采證上，可取代CFC、HFCs、HCFCs 和一些可燃的溶劑在寧海得林法（Ninhydrin）與帝弗歐法(DFO)，此液可強化指紋的紋路，提供最理想的指紋采證。Novec?7100的高潤濕特性，能確保最強的穿透力，在寧海得林法（Ninhydrin）與帝弗歐法(DFO)中，沈淀出氨基酸，得到較清晰指紋。 Novec ? 7100無毒性，不可燃，不會破壞臭氧層(ODP值＝零)，且全球暖化潛值低 (GWP＝320 )，大氣存留時間短（ALT＝4.1年）。 
? 清潔用的化學液 
Novec ? 7100 的沸點為61°C，其溶解力強，適用于氣相去污、濕式清潔和晶圓傳送盒FOUP(Front Opening Unified Pod)的凈化。此化學液具備低表面張力，可深入滲透精密電子儀器中極微小的縫隙，提供完全徹底的清潔效果。 Novec ? 7100幾乎無毒，且不被列為揮發(fā)性有機化合物(volatile organic compound ,VOC)。Novec ? 7100是被美國環(huán)境保護局認同的顯著新替代方案（U.S. EPA's Significant New Alternatives Policy (SNAP) program）。 Novec ? 7100可單獨或混合其它溶劑使用，此化學液與大部份的金屬、塑件及橡膠材質(zhì)的兼容性極佳。 
? 沉積用的溶劑 
Novec ? 7100具有低黏度及低表面張力的特性，提供了此化學液高潤濕性與易流動的性能，其產(chǎn)品表現(xiàn)與PF-5060DL很類似。此化學液對全氟聚醚（PFPE）潤滑劑，能有效的溶解制程中所需之添加物。 
? 熱傳導的化學液 
Novec ? 7100的液態(tài)范圍很寛廣，溫度從零下135°C到61°C，可廣泛的適用于一般的工業(yè)。特別適用于半導體中，自動測試機臺（ATE）及芯片中需低溫控制之設(shè)備。 Novec ? 7100毒性低，不可燃，不會破壞臭氧層( ODP值＝零)，且全球暖化潛值低 (GWP＝320 )，大氣存留時間短（ALT＝4.1年）。比 PFC 更環(huán)保。



Novec? 7100DL工業(yè)用化學液
? 清潔用的化學液 
Novec ? 7100DL是一個高純度的 Novec ? 7100。此化學液的沸點為61°C，其溶解力適用于氣相去污、濕式清潔和晶圓傳送盒FOUP(Front Opening Unified Pod)的凈化。此化學液的低表面張力，可深入滲透精密電子儀器中較緊密性的縫隙，提供完全徹底的清潔效果。 Novec ? 7100DL毒性低，且不被列為揮發(fā)性的有機化合物(volatile organic compound ,VOC)。Novec ? 7100DL 是被美國環(huán)境保護局認同的顯著新替代方案（U.S. EPA's Significant New Alternatives Policy (SNAP) program）。 Novec ? 7100DL可單獨或混合其它溶劑使用，此化學液與大部份的金屬、塑件及橡膠材質(zhì)的兼容性極佳。 
? 沉積用的溶劑 
Novec ? 7100DL是專門運用于硬盤潤滑劑沈積的應用。其低黏稠度及低表面張力的特性，提供了此化學液高潤濕性與易流動的性能，其產(chǎn)品表現(xiàn)與PF-5060DL很類似。此化學液對全氟聚醚（PFPE）潤滑劑，能有效的溶解制程中所需之添加物。 Novec ? 7100DL無毒性，不可燃，不會破壞臭氧層( ODP值＝零)，且全球暖化潛值低 (GWP＝320 )，大氣存留時間短（ALT＝4.1年）。
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