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          晶瑞(廣州)新材料有限公司

          主營:納米氧化鈦,納米氧化硅,納米氧化鋁,納米氧化鎂,納米二氧化鋯,納米氧化鋅
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          [供應(yīng)]拋光粉的種類及拋光效果分析
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          • 產(chǎn)品產(chǎn)地:廣州
          • 產(chǎn)品品牌:晶和
          • 包裝規(guī)格:VK-L30F
          • 產(chǎn)品數(shù)量:1000000
          • 計量單位:公斤
          • 產(chǎn)品單價:0
          • 更新日期:2025-07-31 14:35:16
          • 有效期至:2026-07-31
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          拋光粉的種類及拋光效果分析 詳細(xì)信息

          拋光粉的種類及拋光效果分析

                                   

           

          一.拋光粉的總類:

          拋光粉通常由氧化鋁、氧化硅、氧化鋯、氧化鈰等組份組成,不同的材料的硬度不同,在水中的化學(xué)性質(zhì)也不同,因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鋯的莫氏硬度為9,氧化鈰和氧化硅為7,氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學(xué)活性較高,硬度也相當(dāng),因此廣泛用于玻璃的拋光。

           

          二.對拋光粉的基本要求:

          (1)微粉粒度均勻一致,在允許的范圍之內(nèi);

          (2)有較高的純度,不含機(jī)械雜質(zhì);

          (3)有良好的分散性,以保證加工過程的均勻和高效,可適量添加分散劑提高懸浮率;

          (4)粉末顆粒有一定的晶格形態(tài),破碎時形成銳利的棱角,以提高拋光效率;

          (5)有合適的硬度和密度,和水有很好的浸潤性和懸浮性,因為拋光粉需要與水混合

           

          粒度越大的拋光粉,磨削力越大,越適合于較硬的材料,要注意的是,所

          有的拋光粉的顆粒度都有一個分布問題,平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢,而最大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此,要得到高精度要求,必須控制拋光粉的最大顆粒。普通拋光粉之所以存在劃傷,就是有大顆粒的原因。所以一般選擇粒徑分布范圍窄的納米拋光粉(VK-L30F)。

           

            拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時,漿料濃度因適當(dāng)調(diào)低以得到合適的流動性,一般建議在7-10%

           

          三.拋光模的選擇

          拋光模應(yīng)該用軟一點的。應(yīng)該指出的是,很多聚氨酯拋光片中添加了氧化鈰拋光粉。這些拋光粉的最大顆粒度同樣決定了最終的拋光精度。一般最好使用不加拋光粉的拋光模。

           

          四.影響拋光粉性能的指標(biāo)

          1、粉體的粒度大小:顆粒的大小及均勻度決定了拋光速度和精度,過篩的篩網(wǎng)目數(shù)能掌握粉體相對的粒度的值,平均粒度決定了拋光粉顆粒大小的整體水平。

          2、粉體莫氏硬度:硬度相對大的粉體具有較快的切削效果,同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果;不同的應(yīng)用領(lǐng)域會有很大出入,包括自身加工工藝。

          3、粉體懸浮性:好的拋光粉要有較好的懸浮性,粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響,納米粒徑的拋光粉的懸浮性相對的要好一些,所以精拋一般選擇納米拋光粉。

           

          4、粉體的晶型:粉體的晶型是團(tuán)聚在一起的單晶顆粒,決定了粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團(tuán)聚在一起的單晶顆粒在拋光過程中分離(破碎),使其切削性、耐磨性逐漸下降,顆粒為球型的拋光粉具有良好的切削性、耐磨性和流動性。

           

          五.拋光范圍細(xì)分:

          作為精細(xì)拋光材料,目前市場上用量最大的幾類拋光粉主要是氧化鋁拋光粉,氧化鈰拋光粉,氧化硅拋光粉等。

           

          1.氧化鋁拋光粉:

          氧化鋁拋光粉(VK-L30F)一般用于大理石石材拋光,金屬鋁材拋光,金屬不銹鋼拋光,金相(亞克力板)拋光,PCB印制電路板拋光,油漆拋光,樹脂拋光,玉石拋光,顆粒大小根據(jù)要求一般分布在0.2-0.5um之間。

           

              2. 二氧化硅拋光粉:

          一般用于人工晶體,寶石拋光,或者金屬制品精拋后修復(fù)其少量的瑕疵。其粒徑一般分布在0.3-1um

           

              3. 氧化鈰拋光粉或者拋光液(VK-Ce02W):

          用于鏡頭、電視顯像管、眼鏡片、晶圓,光學(xué)元件、光纖、藝術(shù)玻璃、電子玻璃、平板玻璃等的拋光。一次粒徑一般要求在20-30nm,二次粒徑一般要求0.2um。

           

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