真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

鼎偉新材料專業(yè)提供貴金屬：金、銀、鉑、釕、銠、鈀、鋨、銥靶材蒸發(fā)顆粒貴金屬合金靶材


規(guī)格：（平面圓靶，方靶，臺階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）最薄0.1MM
     
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貴金屬：金、銀、鉑、釕、銠、鈀、鋨、銥
高純金：金靶、金粒、金絲、金電極、金片、金粉
純度：3N、3N5、4N、4N5、5N
規(guī)格：金靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  金粒（規(guī)格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
   金絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
   金片（根據(jù)客戶要求定做）
   金粉（根據(jù)客戶要求定做）
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高純銀：銀靶、銀粒、銀絲、銀電極、銀片、銀粉
純度：3N、3N5、4N、5N
規(guī)格：銀靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  銀粒（規(guī)格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
   銀絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
   銀片（根據(jù)客戶要求定做）
   銀粉（根據(jù)客戶要求定做）
 
高純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑電極、鉑片、鉑粉
純度：3N、3N5、4N、4N5、5N
規(guī)格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  鉑粒（規(guī)格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
   鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
   鉑片（根據(jù)客戶要求定做）
     鉑粉（根據(jù)客戶要求定做）
高純Ru釕：釕靶、釕粒、釕塊、釕片、釕粉
純度：3N、3N5、4N、4N5
規(guī)格：釕靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  釕塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大小可根據(jù)客戶要求）
     釕粉（根據(jù)客戶要求定做）
高純Rh銠：銠靶、銠粒、銠塊、銠粉
純度：3N、3N5、4N
規(guī)格：銠靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  銠塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大小可根據(jù)客戶要求）
     銠粉（根據(jù)客戶要求定做）