矩管內(nèi)表面機械拋光：有旋轉與直線拋光。這里以旋轉機械拋光為例：機械拋光設備較為簡單 動力與拋光盤、高級拋光設備較為簡單，動力與拋光盤、高級拋光蠟。采用逐級細砂粒作的布盤與布盤在管內(nèi)外表面上來回多次多道進行拋光處理，光潔度能達到Ra≤0.2-0.4μm。 機械拋光與電解拋光相比較具有設備簡單、技術含量低容易掌握，費用成本也低，不會破壞管而造成報廢，因此廣泛地應用。但表面印化層耐腐蝕能力電解拋光要好的多。

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