XCTG-6 XCTG-8
鍍膜室規(guī)格 ∮1200×1000～1200mm ∮1200～1900mm×1200～1300mm
極限真空度 ≤7.6×10-4Pa
冷態(tài)抽真空時間 從1×105Pa至6.6×10-3Pa≤15分鐘
機組配置 分子泵F2500  3臺 分子泵F4000 2-4臺
靶配置 6個弧源 8個弧源
配電要求 KW KW
設備用途 適用于手機殼、手表、高爾夫球具等行業(yè)高品質鍍膜要求
備注 可根據用戶產品、產量、膜層特殊要求設計制造非標專用設備。可加裝磁控靶、中頻孿生對靶等。