工具模具涂層鍍膜在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。其主要方法是。（一）物理氣相沉積（PVD） 

在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層的過程，稱為物理氣相沉積，其沉積粒子束來源于非化學因素，如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。 

（二）離子注入 

高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過程，稱為離子注入，如注硼等。 

（三）化學氣相沉積（CVD） 

低壓（有時也在常壓）下，氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學反應而生成固態(tài)沉積層的過程，稱為化學氣相鍍，如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。 

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