氧化鈰拋光粉H-500

H500氧化鈰拋光粉   

LUMINOX   概 要 SEIMI LUMINOX拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經(jīng)日本技術生産而成。 

H-500氧化鈰拋光粉主要用於精密度要求高的光學研磨、拋光。H-500氧化鈰拋光粉的原料爲碳酸稀土，和用氟碳鈰精礦做的拋光粉比較，具有氧化鈰濃度高、切削力大、耐久性長等特點。 

用 途 精密度要求高的光學研磨、拋光。 特 徵 ，切削力大、沈澱凝固少、不易堵塞拋光皮、不發(fā)生劃傷、表面精度高。 産品技術參數(shù)（參考資料，非保證數(shù)值） 品 種 平均粒徑（μ m）   TREO（%）   CeO2（%） 

H-500 2.0               95                    60 

※平均粒徑用激光粒度儀測定。（MICROTRAC PARTICLE SIZE ANALYZER HRA） 
※TREO（TOTAL RARE EARTH OXIDE）：總氧化稀土含量。