1.高純氧化物薄膜材料（濺射靶材、顆粒、壓片）

氧化物

OXIDE

一氧化硅SiO

二氧化鉿HfO2

二氧化鋯ZrO2

二氧化鈦TiO2

一氧化鈦TiO

二氧化硅SiO2

三氧化二鈧Sc2O3

三氧化二鈦Ti2O3

三氧化二鋁Al2O3

五氧化二鈮Nb2O5

五氧化二鉭Ta2O5

五氧化三鈦Ti3O5

三氧化二銦In2O3

二氧化鈰CeO2

氧化鎂MgO

氧化鐠Pr6O11

三氧化鎢WO3

氧化釤Sm2O3

氧化釹Nd2O3

氧化鉍Bi2O3

氧化銻Sb2O3

氧化釩V2O5

氧化鎳NiO

氧化鋅ZnO

氧化鐵Fe2O3

氧化鉻Cr2O3

氧化銅CuO

2.高純氟化物薄膜材料（顆粒、壓片）

氟化物

FLUORIDE

氟化鎂MgF2

氟化鐿YbF3

氟化釔YF3

氟化鏑DyF3

氟化釹NdF3

氟化鉺ErF3

氟化鉀KF

氟化鍶SrF2

氟化釤SmF3

氟化鈉NaF

氟化鋇BaF2

氟化鈰CeF3

3.  特種薄膜材料（濺射靶材、顆粒）——應用太陽能、半導體、磁性元件等，熱壓、熱等靜壓粉末冶金濺射靶材

SrAl2O4

SrAlO4

SrHfO3

SrPrO3

SrZrHfO3

L5

ATO-HP  or  CIP

AZO-HP  or  CIP

鈦酸鑭LaTiO3

鈦酸鋇BaTiO3

鈦酸鍶SrTiO3

鈦酸鐠PrTiO3

冰晶石Na3AlF6

錐冰晶石Na5Al3F14

二鈦酸鐠Pr(TiO3)2

硫化鋅ZnS

硫化鎘CdS-HP

碲化鎘CdTe-HP

銅銦鎵硒CIGS-HP

鍺銻碲GST-HP

硅鉬合金MoSi-HP

二硫化鉬MoS2-HP

二硫化鎢WS2-HP

硅鈦合金SiTi-HP

鎢鈦合金WTi-HP

硅鋁合金SiAl-HP

鉬鉻合金  MoCr-HP

鋁鉻合金AlCr-HP

粉末冶金靶材種類繁多，以上列出有代表性材料，可根據(jù)要求定做。

4.高純金屬及合金材料（濺射靶材、顆粒）

鉿靶Hf

鋯靶Zr

鈦靶Ti

鋁靶Al

鉻靶Cr

鎂靶Mg

銅靶Cu

鐵靶Fe

鈮靶Nb

錫靶Sn

鎢靶W

鉭靶Ta

鉬靶Mo

鎳靶Ni

鈷靶Co

釩靶V

鋱靶Tb

釓靶Gd

鑭靶La

鈰靶Ce

釹靶Nd

鐠靶Pr

金靶Au

銀靶Ag

鉑靶Pt

鎳鉻合金NiCr

鎳釩合金NiV

鋯鈦合金ZrTi

鈮鋯合金NbZr

鋅鎘合金ZnCd