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          北京精科智創(chuàng)科技發(fā)展有限公司

          主營(yíng):技術(shù)開發(fā)、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)服務(wù)、產(chǎn)品設(shè)計(jì)、銷售儀器儀表
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          [供應(yīng)]供應(yīng)VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)
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          • 產(chǎn)品產(chǎn)地:
          • 產(chǎn)品品牌:
          • 包裝規(guī)格:
          • 產(chǎn)品數(shù)量:0
          • 計(jì)量單位:
          • 產(chǎn)品單價(jià):0
          • 更新日期:2023-11-15 11:53:35
          • 有效期至:2024-11-14
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          供應(yīng)VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng) 詳細(xì)信息

          VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)

          關(guān)鍵詞:等離子,13.56MHZ,真空清洗機(jī),2L

          產(chǎn)品介紹:

               VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)是國(guó)內(nèi)目前應(yīng)用廣泛的真空等離清洗機(jī),性能優(yōu)越,可以同時(shí)處理物理和化學(xué)等材料清洗材料。兩檔操作模式,兩路氣壓操作系統(tǒng),全觸摸屏操作,處理參數(shù)任意設(shè)定,是目前高校先進(jìn)材料清洗的首選設(shè)備。

          產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域:

          1、光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
          2清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
          清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
          3、高分子材料表面的修飾。封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強(qiáng)其粘附性,適用于直接封裝及粘和。改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
          4、涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
          5、牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。

          6、醫(yī)用領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。對(duì)醫(yī)療器械的消毒和殺菌

           

          主要技術(shù)參數(shù):

           

           

           

          型號(hào)

          VKL-2

          VKL-3

          VKL-5

          VKL-10

          腔體材料

                                    石英玻璃

          腔體容量

          2L

          3L

          5L

          10L

          內(nèi)腔尺寸

          100×200Lmm

          150×200Lmm

          150×270Lmm

          220×280Lmm

          射頻電源功率

          0-300W可調(diào)

          射頻功率

          13.56MHZ

          RF放射

          無(wú)

          頻率偏移量

          小于0.2KHZ

          等離子體轟擊方式

          從四周往中間

          腔體內(nèi)溫度

          30°C/       65°C

          清洗時(shí)間
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